パルスレーザ成膜(PLD)   :目的別製品

パルスレーザ成膜は、多様化・複合化する材料製造において、最も利便性の高い手法の一つとして利用されています。 特に短波長レーザの高いフォトンエネルギーは、ターゲット組成比の転写再現性に優れており、 且つ、エキシマレーザ特有の疑似フラットビーム形状が、より強度均一性に優れたレーザ成膜を実現します。当社は、パルスレーザ成膜(PLD)応用に最適な幅広い製品をラインアップしています。

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  • エキシマレーザ

該当製品一覧

  • 応 用:パルスレーザ成膜(PLD)

  • レーザの種類:エキシマレーザ

  • レーザアニーリング向け大出力エ...

    VYPER

    VYPER

    308nm,~1200W@600Hz

    優れたエネルギー安定性(0.45%以下)

    第8世代までの基板サイズにも対応

  • コンパクト、高パルスエネルギー...

    COMPexシリーズ

    COMPexシリーズ

    193/248/308/351nm, ~30W@100Hz

    コンパクトなデザインで、設置・操作が容易

    理科学及び研究用途、医療用途にも多くの実績

  • 高効率、高出力エキシマレーザ

    LPXproシリーズ

    LPXproシリーズ

    157/193/248/308/351nm,~80W@200Hz

    稼働率の高い産業用途にも対応

  • 高効率、高出力産業用エキシマレ...

    LEAPシリーズ

    LEAPシリーズ

    248/308 nm,~150W @ 150 Hz

    微細加工応用のコールドアブレーションに最適な波長

    効率的な加工を実現する広い安定化パルスエネルギー領域

    低ショットエネルギー単価

  • 大出力超高安定性産業用エキシマ...

    LAMBDA SXシリーズ

    LAMBDA SXシリーズ

    248/308nm,~540W@600Hz

    バーストモードでもエネルギーが安定

    レーザアニーリングや超精密ドリリングの光源に最適

    専用ソフトウェアにより、複数台の運用を一括管理