パルスレーザ成膜(PLD)   :概要

パルスレーザ成膜は、多様化・複合化する材料製造において、最も利便性の高い手法の一つとして利用されています。 特に短波長レーザの高いフォトンエネルギーは、ターゲット組成比の転写再現性に優れており、 且つ、エキシマレーザ特有の疑似フラットビーム形状が、より強度均一性に優れたレーザ成膜を実現します。当社は、パルスレーザ成膜(PLD)応用に最適な幅広い製品をラインアップしています。

レーザ活用のメリット

  • 成膜時に幅広いプロセスウィンドウを維持
  • 短波長・高パルスエネルギーのレーザにより、禁制帯幅の大きな物質の薄膜化が可能
  • 多元系材料においても、ターゲット組成の転写再現性に優れる
  • 堆積速度の制御性に優れる(レーザエネルギー、繰返周波数可変

対象材料例

酸化物、磁性体、強誘電体、超電導

加工の様子

パルスレーザ成膜(PLD)
加工の様子